深圳先进电子材料国际创新研究院拟对“物理气相沉积溅射仪”项目进行采购，现将需求公示如下：

（一）项目基本信息

项目名称：物理气相沉积溅射仪

是否接受进口设备：是

（二）采购需求概况

采购此设备用于大于100nm的各类金属种子层的制备，例如Ti，Cu，Ni等，可以应用于先进封装制程中，用于材料和电镀药水的配方验证。

采购内容和数量：主机系统一套，包括传输模块，去气模块，清洗模块以及工艺沉积模块（不少于了两个腔室）；真空模块，冷却模块以及动力模块；RGA模块，控制软件系统一套。 

简要技术需求：1：金属沉积速率＞60nm/min; 2:可兼容8寸/12寸晶圆；3.镀铜表面粗糙度<3nm；4:刻蚀速率＞15nm/min

（三）公示期限（不少于三个工作日）

2020年11月13日至2020年11月18日

任何供应商、单位或者个人对公示内容有异议的，请在公示期内以书面形式将意见反馈至采购人、同级财政部门。

（四）采购单位联系方式

采购单位：深圳先进电子材料国际创新研究院

联系人: 姜老师

联系方式：0755-86392103

附件：【腾讯文档】供应商信息表https://docs.qq.com/sheet/DQVlMeW5WUmFzU3lO，请自行下载。